研究用MOCVD原理-NMC-3000 PAMOCVD系統(tǒng)
等離子輔助MOCVD技術(shù)
NMC-3000 PAMOCVD系統(tǒng)概述：
NANO-MASTER針對(duì)InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺(tái)式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PA-MOCVD),該系統(tǒng)具有5個(gè)鼓泡裝置(各帶獨(dú)立的冷卻槽)、加熱的氣體管路、950度樣品臺(tái)三個(gè)氣體環(huán)、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵(5 x 10-7Torr極限真空)、PC全自動(dòng)控制，完全的安全互鎖。
目前，這項(xiàng)技術(shù)延伸到5個(gè)4"晶圓的立柜式獨(dú)立批處理系統(tǒng)，該系統(tǒng)可以集成到集群配置中以滿足高產(chǎn)量的要求。
NMC-3000 PAMOCVD系統(tǒng)應(yīng)用：Green LED’s (GaN, InGaN, AlGaN, ...)
NMC-3000 PAMOCVD系統(tǒng)特點(diǎn)：
臺(tái)式系統(tǒng)
5個(gè)帶獨(dú)立冷卻槽的起泡器
加熱的氣體管路
950 °C樣品臺(tái)，2"晶圓片
3個(gè)氣體環(huán)
RF等離子源，帶淋浴頭氣體分布
工藝完成后N2自動(dòng)沖洗
極限真空5x10-7Torr
260 l/s的渦輪分子泵串接無油干泵
通過LabView軟件實(shí)現(xiàn)PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制
菜單驅(qū)動(dòng)，4級(jí)密碼訪問控制
完整的安全聯(lián)鎖
NMC-3000 PAMOCVD系統(tǒng) Features：
Table Top System
ive Bubblers with Individual Cooling Baths
Heated Gas Lines
950 °C Platen, 2" Wafer
Three Gas Rings
RF Plasma Source with Shower Head Gas Distribution
N2 Flush after Process
5x 10-7 Torr Base Pressure
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