銅靶
化學符號：Cu
原 子 量：63.546
外觀純銅：紫紅色金屬
熔 點：1083.4℃
沸 點：2567℃
密 度：8.92g/cm3
蒸 發 源（絲、片）：鎢、鉭、鉬、鈮
坩 堝：Mo、C、Al2O3
在10-4Torr蒸發溫度：1017℃
薄膜的機械和化學性質：膜層附著不好，利用中間層Cr可增加附著力；
應 用：保護膜，反射膜，增透膜
靶材形狀：板材，圓片，矩形，方形，圓環，圓管，臺階圓片，臺階矩形，其他規格根據客戶要求定做. 提供規格的銅靶托、鉬靶托、鋁靶托、鈦靶托；提供金屬靶材,合金靶材,陶瓷靶材的背面金屬化服務；提供金屬靶材,合金靶材,陶瓷靶材與靶托的綁定服務。
本公司長期供應4N高純銅靶，5N高純銅靶，6N高純銅靶高純銅，高純銅靶材，高純銅絲，高純銅粒，高純銅柱，高純銅板，銅錠，銅帶，銅箔，銅粉，銅型材，純度4N-6N，平面靶材，磁控濺射旋轉靶材。本公司擁有國內外先進的技術設備，和高端的技術人員，通過真空熔煉，熔融鑄造，粉末冶金，熱壓，冷（熱）等靜壓等技術，專業研發制造高純度靶材，我們的靶材純度高，致密度高，放氣量小，晶粒細，成膜質量好，價格優惠，歡迎新老客戶至電咨詢！
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