進口晶圓清洗機/生產研究用晶圓清洗去膠系統
兆聲清洗技術
LSC-4000兆聲大基片清洗系統概述：
*新技術的兆聲和清洗技術的發展，對MEMS和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了*新的水平，可以幫助用戶獲得*干凈的晶圓片和掩模版。
NANO-MASTER提供兆聲單晶圓&掩模清洗(LSC)系統，用于先進的無損兆聲清洗。可以適用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達到*優化的清洗效果，兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。NANO-MASTER的專利技術確保了聲波能量均勻分布到整個基片表面，通過分布能量的*大化支持*理想的清洗，同時保證在樣片的損傷閾值范圍內。
LSC系統提供了可控的化學試劑滴膠能力，這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進一步加強。LSC和SWC系列一樣具備對點試劑滴膠系統，可以*大程度節省化學試劑的用量的。滴膠系統支持可編程的化學試劑混合能力，提供了可控的化學試劑在整個基片上的分布。
通過聯合使用化學試劑滴膠和NANO-MASTER的兆聲清洗技術，系統去除顆粒的能力得到進一步優化。顆粒從表面被釋放的能力也因此得到提升，從而被釋放的顆粒在幅流的DI水作用下被掃除出去，而把回附的數量降到了*低水平。從基片表面被去除。如果沒有使用幅流DI水的優勢，*先進的靜態可循環兆聲清洗槽會有更大數量的顆粒回附，并且因此需要更多的去除這些顆粒。
此外，NANO-MASTER的清洗機都還提供了一系列的選配功能。PVA軟毛刷提供了機械的方式去除無圖案基片上的污點和殘膠。DI水臭氧化的選配項提供了有機物的去除，而無須腐蝕性的化學試劑。我們的氫化DI水系統跟兆聲能量結合可以達到納米級的顆粒去除。根據不同的應用，某些選配項將會進一步提高設備去除不想要的顆粒和殘留物的能力。
LSC系統能夠就地實現熱氮或異丙醇甩干。“干進干出" 一步工藝可以在我們的系統中以*低的投資和購置成本來實現
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