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供應(yīng)進(jìn)口晶圓清洗去膠系統(tǒng)

供應(yīng)進(jìn)口晶圓清洗去膠系統(tǒng)_那諾中國(guó)有限公司_供應(yīng)進(jìn)口晶圓清洗去膠系統(tǒng)

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公　司：那諾中國(guó)有限公司

發(fā)布時(shí)間：2016年04月29日

有效期：2016年10月29日

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詳細(xì)說(shuō)明

進(jìn)口晶圓清洗去膠系統(tǒng)
兆聲清洗技術(shù)
LSC-4000兆聲大基片清洗系統(tǒng)概述：

*新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對(duì)MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了*新的水平，可以幫助用戶獲得*干凈的晶圓片和掩模版。
NANO-MASTER提供兆聲單晶圓&掩模清洗(LSC)系統(tǒng)，用于先進(jìn)的無(wú)損兆聲清洗。可以適用于易受損的帶圖案或無(wú)圖案的基片，包含帶保護(hù)膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達(dá)到*優(yōu)化的清洗效果，兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。NANO-MASTER的專利技術(shù)確保了聲波能量均勻分布到整個(gè)基片表面，通過(guò)分布能量的*大化支持*理想的清洗，同時(shí)保證在樣片的損傷閾值范圍內(nèi)。
LSC系統(tǒng)提供了可控的化學(xué)試劑滴膠能力，這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進(jìn)一步加強(qiáng)。LSC和SWC系列一樣具備對(duì)點(diǎn)試劑滴膠系統(tǒng)，可以*大程度節(jié)省化學(xué)試劑的用量的。滴膠系統(tǒng)支持可編程的化學(xué)試劑混合能力，提供了可控的化學(xué)試劑在整個(gè)基片上的分布。
通過(guò)聯(lián)合使用化學(xué)試劑滴膠和NANO-MASTER的兆聲清洗技術(shù)，系統(tǒng)去除顆粒的能力得到進(jìn)一步優(yōu)化。顆粒從表面被釋放的能力也因此得到提升，從而被釋放的顆粒在幅流的DI水作用下被掃除出去，而把回附的數(shù)量降到了*低水平。從基片表面被去除。如果沒(méi)有使用幅流DI水的優(yōu)勢(shì)，*先進(jìn)的靜態(tài)可循環(huán)兆聲清洗槽會(huì)有更大數(shù)量的顆粒回附，并且因此需要更多的去除這些顆粒。
此外，NANO-MASTER的清洗機(jī)都還提供了一系列的選配功能。PVA軟毛刷提供了機(jī)械的方式去除無(wú)圖案基片上的污點(diǎn)和殘膠。DI水臭氧化的選配項(xiàng)提供了有機(jī)物的去除，而無(wú)須腐蝕性的化學(xué)試劑。我們的氫化DI水系統(tǒng)跟兆聲能量結(jié)合可以達(dá)到納米級(jí)的顆粒去除。根據(jù)不同的應(yīng)用，某些選配項(xiàng)將會(huì)進(jìn)一步提高設(shè)備去除不想要的顆粒和殘留物的能力。
LSC系統(tǒng)能夠就地實(shí)現(xiàn)熱氮或異丙醇甩干。“干進(jìn)干出" 一步工藝可以在我們的系統(tǒng)中以*低的投資和購(gòu)置成本來(lái)實(shí)現(xiàn)
那諾中國(guó)有限公司|||進(jìn)口晶圓清洗去膠系統(tǒng)

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