掃描電子顯微鏡/X射線能譜儀(SEM/EDS)
掃描電子顯微鏡/X射線能譜儀（SEM/EDS）是依據電子與物質的相互作用。當一束高能的入射電子轟擊物質表面時，被激發的區域將產生二次電子、俄歇電子、特征x射線和連續譜X射線、背散射電子、透射電子，以及在可見、紫外、紅外光區域產生的電磁輻射。原則上講，利用電子和物質的相互作用，可以獲取被測樣品本身的各種物理、化學性質的信息，如形貌、組成、晶體結構、電子結構和內部電場或磁場等等。SEM/EDS正是根據上述不同信息產生的機理，對二次電子、背散射電子的采集，可得到有關物質微觀形貌的信息，對x射線的采集，可得到物質化學成分的信息。
應用范圍：
1．材料組織形貌觀察，如斷口顯微形貌觀察，鍍層表面形貌觀察，微米級鍍層厚度測量，粉體顆粒表面觀察，材料晶粒、晶界觀察等。
2．微區化學成分分析，利用電子束與物質作用時產生的特征X射線，來提供樣品化學組成方面的信息，可定性、半定量檢測大部分元素（Be4-PU94），可進行表面污染物的分析，焊點、鍍層界面組織成分分析。根據測試目的的不同可分為點測、線掃描、面掃描；
3．顯微組織及超微尺寸材料分析，如鋼鐵材料中諸如馬氏體、回火索氏體、下貝氏體等顯微組織的觀察分析，納米材料的分析
4．在失效分析中主要用于定位失效點，初步判斷材料成分和異物分析。
主要特點：
1．樣品制備簡單，測試周期短；
2．景深大，有很強的立體感，適于觀察像斷口那樣的粗糙表面；
3．可進行材料表面組織的定性、半定量分析；
4．既保證高電壓下的高分辨率，也可提供低電壓下高質量的圖像；
技術參數：
分 辨 率：高壓模式：3nm，低壓模式：4nm
放大倍數：5~100萬倍
檢測元素：Be4-PU94
樣品直徑：200mm
圖象模式：二次電子、背散射 |
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