現代電子,光學科技的飛速發展, 令到許多相關行業對其原材料表面光潔度的要求越來越高. 能否正確選用適當的研磨, 拋光材料, 已成為保障這類產品品質的最重要的因素之一. 在超過半個世紀的發展中, 隨著各類新型材料在高科技及生活中的出現, 科凝化工根據被加工物件各異的理化特性, 針對性的研制了各類不同的拋光研磨材料, 充分滿足了市場的需求. 近年來, 國內半導體, 激光, 壓電晶體, 光學晶體, 光學玻璃, 光學塑料以至鏡面金屬模具, 陶瓷加工等行業的高精度表面處理, 都在越來越多的采用.
CMPKN-80 是以高純度的，粒徑僅為數十納米的膠態氧化硅配以獨特的專利懸浮防銹液等高分子成分所組成。可以保障到被加工件鏡面無劃痕的要求，特別適用于鈮酸鋰，鉭酸鋰，藍寶石等電子材料最終拋光。達到即開即用的標準，同樣也廣泛應用于各種非線性光學晶體，激光晶體的精拋，以及高硬度合金模具，特殊陶瓷，電腦玻璃磁盤基片等產品的最終精拋。
應用領域：
1、金屬類材料：如不銹鋼、鋁合金、鋅件拋光；
2、LED藍寶石襯底，晶體、寶石件拋光；
3、光學鏡片、光學玻璃、石英件拋光；
4、磁頭、硬盤件拋光；
5、光纖以及光伏拋光。
包裝規格：20Kg/桶。
儲存方式：存放溫度為0℃-50℃，避免陽光照射；
保質期限：堿性拋光液保質期為一年，建議在一年內使用。 |
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