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ARL 4460 金屬分析儀
技術規格：
光普室設計: 一米焦距，帕邢龍格裝置，真空型，恒溫控制（38±0.1０C）,特殊鑄鐵材料制造,*多設置60條通道
試樣臺: 充氬樣品臺;內置自循環水冷系統
光柵: 根據分析任務,儀器配置以下三種光柵中的一種 1080gr/mm,1667gr/mm,2160gr/mm
分辨率: 視光柵,出射狹縫和光譜等到級而定
狹縫寬度: 入射狹縫:20um; 出射狹縫:25 , 37.5 , 50 , 75um
光電倍增管: 直經Φ28mm,10級側窗管,光學玻璃或人造石英窗
光源: 電流控制光源(CCS)
光譜儀控制: 利用CMOS技術的APL MMB386微處理器,帶狀態控制卡;每條通道均配置數模(A/D)轉換器和衰減器分為41檔;測量電子部分的動態范圍與測量時間成正比,一般為2×106計數/秒
12位可編程衰減器
時間分辨光譜(TRS)
環境要求: 室溫:16～30０C,*大允許溫差為50C/小時;相對濕度20～80%
電力要求: 電壓230V（+10%-15%），保護性接地的單相電源
（電壓波動超過±10%時需用5KVA穩壓器）。電流12A，頻率50或60Hz；功率2.5KVA;接地電阻<1Ω
歐洲標準:89/392/EEC低壓材料,89/366/EEC電磁
氬氣要求: 純度99.995%,*大含量5ppm(分析高Si樣品時,*大含量為2ppm)
瑞士ARL公司有著七十余年從事光譜分析儀器研究、設計、生產的經驗。主要產品有直讀光譜儀、X射線熒光光譜儀、X射線衍射儀及全自分析系統。其產品在世界光譜儀市場特別是歐美市場上享有極高的聲譽。以直讀光譜儀為例，目前的年產量達550臺以上，已安裝并投入使用達15，000臺以上，無論是年銷量和市場占有率均占世界*一位。 |
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