真空蒸鍍原理
將被鍍薄膜基材（筒狀〕裝在真空蒸鍍機中，用真空泵抽真空，使鍍膜中的真空度達到1.3×10－2～1.3×10-3Pa，加熱坩鍋使高純度的鋁絲在1200℃～1400℃的溫度下溶化并蒸發成氣態鋁。氣態鋁微粒在移動的薄膜基材表面沉積、經冷卻還原即形成一層連續而光亮的金屬鋁層。通過控制金屬鋁的蒸發速度、薄膜基材的移動速度以及鍍膜室的真空度等來控制鍍鋁層的厚度，一般鍍鋁層厚度在25～500nm，鍍鋁薄膜的寬度為800mm～2000mm。
蒸鍍方法：在基材表面蒸鍍鋁的方法有直接蒸鍍法和轉移法兩種。
(1)直接蒸鍍法。是被鎮基材直接通過真空鍍膜機，將金屬鋁蒸鍍在基材表面而形成鍍鋁薄膜。直接蒸鍍法對基材的要求較高，尤其是要形成表面光亮的金屬膜，必須要求基材具有較好的表面平滑度。如果紙張的表面較粗糙，要采用直接蒸鍍法，在鍍鋁前需先進行表面涂布。另外，在蒸鍍過程中基材的揮發物要少。因此直接蒸鍍法對基材有較大的局限性，它主要適合于蒸鍍塑料薄膜，也可用于紙張的蒸鍍，但紙張的質量要求高，并對紙的定量有一定的限度。
(2)轉移法。是借助載體膜(真空鍍鋁膜)將金屬鋁層轉移到基材的表面而形成鍍鋁薄膜。轉移法是在直接蒸鍍法的基礎上發展起來的新工藝，它克服了直接蒸鍍法對基材要求的局限性，尤其適合于在各種紙及紙板上進行鍍鋁，也可用于塑料薄膜的鍍鋁。國外已將轉移法應用到布、纖維、皮革等基材的鍍鋁產品上。我國主要采用轉移法生產鍍鋁紙。 |
免責聲明：以上所展示的信息由會員自行提供，內容的真實性、準確性和合法性由發布會員負責，www.qy6.com對此不承擔任何責任。如有侵犯您的權益，請來信通知刪除。