|
天津吉兆源科技有限公司
聯系人:王麗
女士 (銷售經理) |
電 話:18610611799 |
手 機:18526680128  |
 |
|
 |
|
遠程等離子體源(Remote Plasma Source,RPS) |
是一種用于產生等離子體的裝置,通常被用于在真空環境中進行表面處理、材料改性、薄膜沉積等工藝,以及半導體刻蝕和薄膜設備的預處理反應和清洗等。與傳統等離子體源不同的是,RPS通常不直接接觸要處理的表面,而是在一定距離之外產生等離子體,并將等離子體輸送到目標表面,因此被稱為“遠程等離子體源”。
應用特征
采用新的固態微波源技術【非磁控管微波源】。具有很高的頻率、功率穩定性,使用壽命長。
自主開發的微波匹配器,能實現在不同氣體條件下,快速進行微波源與等離子體的阻抗匹配。
等離子體發生器材質可選,適用于多種氣體。
體積小、集成度高、便于更換。低顆粒污染;
獨特的等離子反應腔設計,適用于多種氣體的電離與阻抗匹配。
系統運行時,氣體壓力適應范圍寬。氣體電離率高、電離速度快。 |
|
|