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吉致電子JEEZ TSV CMP CU Slurry 銅化學機械拋光液

詳細說明

吉致電子JEEZ TSV CMP CU Slurry 銅化學機械拋光液

無錫吉致電子科技有限公司25年研發生產——TSV CMP CU Slurry/TSV銅化學機械拋光液/半導體cmp拋光液slurry/TSV Cu Slurry/銅拋光液/TSV硅通孔拋光液/TSV CU 拋光漿料

TSV硅通孔的作用: 提高集成度、降低功耗系統地集成數字電路、模擬電路。通過銅、鎢、多晶硅等導電物質的填充實現硅通孔的垂直電氣互連，用于3D封裝TSV阻擋層化學機械拋光液。

吉致電子JEEZ用于3D封裝TSV化學機械拋光液：

可定制選擇穩定的選擇比，去除速率，對氧化物/氮化物的選擇比。硅精拋液系列具有低缺陷的優點。Cu拋光液系列具有理想的硅和二氧化硅去除速率和選擇比。涵蓋TSV銅/阻擋層Slurry，TSV晶背銅/介質層拋Slurry、TSV晶背硅Slurry、TSV晶背硅/銅Slurry等。具有高去除速率、選擇比可調等優點。以及集成電路制造工藝中淺槽隔離的拋光等等。

我司產品優點：

1.懸浮性好，不易沉淀，使用方便。

2.顆粒分散均勻，不團聚，軟硬度適中，有效避免拋光過程中由于顆粒團聚導致的工件表面劃傷缺陷。

3.運用拋光過程中的化學新作用，提高拋光速度，改善拋光表面的質量。

4.分散性好、乳液均一，程度提升拋光速率的同時降低微劃傷的概率，可以提高拋光精度。

5.無粉塵產生，關注環保和人體健康安全。

可定制化：我們的拋光液可以根據客戶需求定制不同的PH、粒徑、濃度、穩定離子等。

包裝方式：25KG/桶(也可依客戶需求