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武漢嘉儀通科技有限公司
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| 晶化快速退火爐 |
關鍵詞：晶化退火爐 晶化退火設備 晶化快速退火爐
嘉儀通晶化快速退火爐RTP-3-01系列采用紅外輻射加熱技術，可實現1吋(選配2吋)樣品快速升溫和降溫，同時搭配超高精度溫度控制系統，可達到極佳的溫場均勻性，對薄膜材料進行晶化快速退火處理，提高薄膜材料的均勻性及穩定性。
晶化快速退火爐產品特點：
快速加熱和降溫: *高可控升溫速率可達50 ℃/s，特定條件下可以達到100 ℃/s。冷壁水冷設計能夠達到較大的降溫速率，特定條件下可達30 ℃/s。
 精確控溫: 采用工業級溫控器進行PID精確控溫，目標溫度與設定溫度曲線一致性高，可實現室溫至1200 ℃的溫度精確控制。
 適應多種工藝環境: 滿足多種工藝氣氛下的熱處理（氮氣、氬氣等）。同時，通過選配真空泵，可以在真空條件下進行退火，*高真空度可達10-3Pa。
 配備觀察窗口: 通過觀察窗口，可以實時觀察熱處理過程中的樣品變化。同時，可以結合相關測試方法進行原位測試分析。
 超高安全系數: 采用爐壁超溫報警系統和冷卻水流量報警系統，全方位保障儀器使用安全。
 國產退火爐：擁有自主研發技術和制造能力，能快速反應客戶售后需求。
晶化快速退火爐技術參數：
型號 RTP-3-01系列
*高溫度 1200℃
*大升溫速率 50℃/s
溫度均勻性 ≦1%設定溫度
溫度控制 選用工業級溫控器，控溫精度±0.1℃
溫度傳感器 標準K型熱電偶
*大降溫速率 1200℃→400℃，200℃/min
400℃→100℃，20℃/min
（自然冷卻）
*大樣品尺寸 W20 x L20 x T2 (mm)
主機尺寸 W420X L320X H220 (mm)
主機重量 20.5kg
晶化快速退火爐客戶案例：
清華大學使用嘉儀通1吋晶化快速退火爐給HfO2薄膜做晶化退火，得到晶相一致晶粒較小的晶體，提高薄膜材料的均勻性及穩定性。 |
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