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上海埃飛電子科技有限公司
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| 測厚儀 |
光聲無損膜厚儀
隨著電子和納米科學時代的興起，電子元件的小型化已成為其幾乎呈指數級性能的重要因素。將技術層和涂層減薄到納米級，可以在各種領域取得進步。復雜的制造流程推動控制變得越來越準確。
光聲無損膜厚儀為這些演變相關的許多問題提供了解決方案。缺陷檢測現在在許多行業中必不可少，以避免在生產過程中遇到問題并提高質量水平。
我們使用獲得專利的光聲技術設計了光聲無損測量系統。 技術源自法國CNRS 和波爾多大學的技術轉讓，它依靠激光、材料和聲波之間的相互作用深入物質的核心。
我們的非破壞性和非接觸式技術將光轉換為聲頻超過100GHz 的聲波。 目的在于表征涂層，例如不同類型材料的厚度和附著力。特別適用于測量從幾納米到幾微米的薄層，無論是不透明的（金屬、金屬氧化物和陶瓷），還是半透明和透明的。 這種100%光學技術不受樣品形狀的影響。
產品特點
• 非破壞性和非接觸式技術
• 薄膜的表征：厚度、附著力、熱性能
• 快速且可重復的測量
• 超精密測量
• 許多材料可用
• 能檢測的膜厚度從 2納米～20微米
• 掃描方式：單點、XY掃描、表面聲波
• 測樣樣品種類： 不透明、半透明、透明均可測試。
• 平坦和彎曲的樣品均可
系統構成：
光聲無損膜厚儀使用兩個同步的超快激光器。會產生大約100飛秒的不同波長的激光脈沖。使用這些脈沖進行非破壞性和非接觸式測量。這些都集中在所研究的樣品表面。
能使用的材料
廣泛的材料及其在許多應用中的使用使這一材料方面變得必不可少。自產品問世以來，我們的技術已證明其有能力測量許多金屬材料。也適用于陶瓷和金屬氧化物，并且不受外形因素的影響。
無損檢測 (NDT) 具體應用案例半導體行業
半導體行業為我們周圍遇到的大多數電子設備提供了基本組件。它的制造需要在硅晶片上進行多次薄膜沉積。
問題？
在任何工藝過程中，不透明薄膜的沉積，無論是單層還是多層，都需要質量控制。無論是檢測還是計量，厚度測量和界面表征都是確保其質量的關鍵問題。
我們的解決方案？
- 高速控制。
- 非破壞性和非接觸式測量。
- 單層和多層厚度測量。
顯示器行業
今天，不同的技術競爭主導顯示器的生產，而顯示器在我們的日常使用中無處不在。事實上，由于未來 UHD-8K 標準以及新興柔性顯示器的制造工藝，這個不斷擴大的行業存在技術限制。
問題？
一個像素仍然是一堆薄層有機墨水、銀、ITO……在這方面，控制薄層厚度的問題仍然存在。這些問 |
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