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科晶真空科技（蘇州）有限公司

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科晶真空科技（蘇州）有限公司

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產品目錄

磁性材料真空燒結爐

詳細說明

真空爐VRSF1200-422/644型技術參數

一、 設備基本原理及主要用途

1. 設備用途

適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理，應用于電子元器件、新型材料及粉體材料的真空氣氛處理，材料在惰性氣氛環境下進行燒結。本設備具有安全可靠、操作簡單、控溫精度高、保溫效果好、溫度范圍大、爐膛溫度均勻性高等特點。綜合性能指標較高。根據不同的使用氣氛及使用溫度，使用不同的加熱元件，型號齊全，對需在惰性氣體環境下燒結的材料，本設備是一個非常好的選擇，同時也可滿足于不同工藝實驗而特殊制造。

2. 設備簡介 

該真空電阻爐以優質HRE合金絲為加熱元件，采用雙層殼體結構30段程序控溫系統，移相觸發、可控硅控制，爐膛采用優質氧化鋁材料，雙層爐殼間配有風冷系統。爐體采用整體密封，蓋板和爐門密封采用高溫硅膠板、爐門口安裝有真空系統、水冷系統等，氣體經過流量計后進入爐體，可以通氬氣、氮氣等惰性氣體，并能抽真空。

二、 主要技術參數

1.極限溫度：1200℃

2.工作溫度：1100℃

3. 加熱功率：   6KW/25KW

4.加熱形式：   優質HRE電阻絲，溫場均勻，能耗低

5. 爐膛尺寸：    400mm*200mm*200mm

600mm*400mm*400mm

6. 保溫材料：    高純氧化鋁微晶體纖維，保溫性能好

7. 裝料方式：    前側裝料

8. 極限真空度：  6.7x10^(-4) Pa

9. 控制精度：    ±1 ℃

10. 熱電偶型號：N型

11. 溫控控制：    30段程序控溫系統，PID控制

12. 內外層爐殼：  SECC鋼板防銹處理，并經粉體烤漆處理

13. 設備表面溫度：≤60℃

14. 數據導出系統：可通過USB將升降溫工藝導出，曲線圖顯示

三、 設備結構特征

此款真空電阻爐主要由爐體、加熱保溫系統、真空系統、氣氛控制系統、水冷系統、電器控制系統等組成。

 1. 爐體

爐體采用雙層殼體結構，爐內殼體采用整體密封，爐門密封采用高溫硅膠板密封、爐口設有水冷系統以保護爐口密封圈，爐殼配有水冷系統，保證表面溫度≤60 ℃。

2. 加熱保溫系統

3.

加熱元件采