真空鍍主要包括真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型，它們都是采用在真空條件下，通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時具有速度快附著力好的突出優點，但是價格也較高，可以進行操作的金屬類型較少，一般用來作較高檔產品的功能性鍍層·
真空蒸鍍:在高真空下，通過金屬細絲的蒸發和凝結，使金屬薄層附著在塑膠表面。 真空蒸鍍過程中金屬(*常用的鋁)的熔融，蒸發僅需幾秒鐘，整個周期一般不超過15s，鍍層厚度為0.8-1.2uM.
設計真空蒸鍍塑料制品應避免大的平坦表面，銳角和銳邊。凹凸圖案、紋理或拱形表面效果*佳。真空蒸鍍很難獲得光學平面樣制品表面。
真空鍍表面鍍的是漆，水鍍表面鍍的是金屬層。
A9手機的面殼鍍銅后鍍LOU，共10μ，鍍LOU層0.18μ。真空電鍍相對于水電鍍來講，表面硬度較低，耐磨度也比較低，遇陽光易老化掉色，但污染較小。真空鍍不導電
目前水電鍍在重工業上應用較多(汽車等)，而真空電鍍則廣泛應用于家用電器、化妝品包裝。
如果真空電鍍的硬度能達到水電鍍的等級，那么水電鍍將要消失了。
目前很多手機上的金屬外觀件，都采用PVD真空離子鍍，不僅能夠提供漂亮的顏色而且耐磨性很好。不過比較貴，成本較高。
濺射鍍:磁控濺射鍍膜設備:
磁控濺射鍍膜設備是一種多功能、高效率的鍍膜設備。可根據用戶要求配
置旋轉磁控靶、中頻孿生濺射靶、非平衡磁控濺射靶、直流脈沖疊加式偏壓電源等，
組態靈活、用途廣泛，主要用于金屬或非金屬(塑料、玻璃、陶瓷等)的工件鍍鋁、
銅、鉻、鈦金、銀及不銹鋼等金屬膜或非金屬膜及滲金屬DLC膜，所鍍膜層均勻、
致密、附著力強等特點，可廣泛用于家用電器、鐘表、工藝美術品、玩具、車燈
反光罩以及儀器儀表等表面裝飾性鍍膜及工模具的功能涂層。
a旋轉磁控濺射鍍膜機;旋轉磁控濺射鍍膜技術，是國內外*先進的磁控濺射鍍膜技術，靶材利用率達到70~80%
以上，基體鍍膜均勻，色澤一致。
b平面磁控濺射鍍膜機;
c中頻磁控濺射鍍膜機;
d射頻磁控濺射鍍膜機。
可以在金屬或非金屬(塑料、玻璃、陶瓷)的工件鍍金屬鋁、銅、鈦金、鋯、銀、不銹鋼及金屬反應物(氧化
物、氮化物、炭化物)、半導體金屬及反應物。所鍍膜層均勻、致密、附著力好等特點。
一、 單室/雙室/多室磁控濺射鍍膜機
該鍍膜機主要用於各種燈飾、家電、鐘表、玩具以及美術工藝等行業，在金屬或非金屬(塑料、玻璃、陶瓷)等
制品鍍制鋁、銅、鉻 |
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