低溫等離子體反應(yīng)區(qū)富含極高的物質(zhì),如高能電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子等,廢氣中的污染物質(zhì)可與這些具有較高能量的物質(zhì)發(fā)生反應(yīng),使污染物質(zhì)在極短的時間內(nèi)發(fā)生分解,并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達到講解污染物的目的。與傳統(tǒng)的電暈放電形勢產(chǎn)生的低溫等離子技術(shù)相比較,低溫等離子體技術(shù)放電密度是電暈放電的一千五百倍。
等離子體去除污染物的基本過程
過程一：
高能電子的直接轟擊
過程二
O原子或臭氧的氧化O2+e→2O
過程三:
OH自由基的氧化
過程四
分子碎片+氧氣的反應(yīng)
（3）產(chǎn)品性能綜述
低溫等離子體工業(yè)廢氣處理設(shè)備的發(fā)明為化工清潔生產(chǎn)奠定了基礎(chǔ),是近代化學(xué)工業(yè)生產(chǎn)的一次技術(shù)革命。
與目前國內(nèi)常用的異味氣體治理方法相比較,低溫等離子體工業(yè)廢氣處理技術(shù)具有以下特點：
A介質(zhì)阻擋放電產(chǎn)生電子能量高,低溫等離子體密度大,達到常用等離子技術(shù)（電暈放電)的一千五百倍,幾乎可以和所有的惡臭氣體分子作用；
B反應(yīng)速度快,氣體通過反應(yīng)區(qū)的速度達到3-15米/秒,即達到很好的處理效果, 其他技術(shù)氣體通過反應(yīng)區(qū)的速度0.01米/秒都很難達到處理效果；
C氣體通過部分,全部采用陶瓷、石英、不銹鋼等防腐蝕材料,電極與廢氣不直接接觸,根本上解決了低溫等離子體技術(shù)設(shè)備腐蝕問題；其他技術(shù)是氣體與電極直接接觸,電極在3個月或1年內(nèi)會造成嚴(yán)重腐蝕,即使通過的氣體沒有腐蝕性,自身所產(chǎn)生的臭氧也會把電極造成腐蝕;
D主機為成套工業(yè)廢氣處理裝置,前面配有專用塔,能有效去除廢氣中的粉塵和水分,操作簡單
【適用范圍】
（1）適應(yīng)范圍廣泛，對VOCs有機廢氣、非甲烷總烴、以及《國家惡臭污染控制標(biāo)準(zhǔn)》中規(guī)定的八大惡臭物質(zhì)（氨、硫化氫、二硫化碳、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、三甲胺、苯乙烯）以及苯、甲苯等廢氣均能有效治理凈化，特別適合處理各種惡臭廢氣、腐臭廢氣、廢水污水惡臭氣體等。 |
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