主要用于電子陶瓷產(chǎn)品的預(yù)燒、燒結(jié)、鍍膜、高溫?zé)峤獾蜏爻练e（CVD）工藝等。
TN-1200X-80型高真空CVD管式爐
該儀器是一個(gè)三溫區(qū)真空管式爐主要用于大專院校、科研院所、工礦企業(yè)等試驗(yàn)和小批量生產(chǎn)之用。主要用于電子陶瓷產(chǎn)品的預(yù)燒、燒結(jié)、鍍膜、高溫?zé)峤獾蜏爻练e（CVD）工藝等。
儀器的控制系統(tǒng)采用原裝進(jìn)口產(chǎn)品，具有操作容易，安全可靠，控溫精度高（專家PID控制），保溫效果好，溫度范圍大，爐膛溫度均勻性高，溫區(qū)多，可通氣泵，抽真空等特點(diǎn)。
1 產(chǎn)品名稱 高真空CVD管式爐
2 產(chǎn)品型號 TN-1200X-80
3 加熱元件 電阻絲
4 加熱區(qū)長度 220mm
5 恒溫區(qū)長度 100mm
6 工作溫度 ≤1100℃
7 *高溫度 1200℃
8 控溫方式 智能化30段可編程控制
9 恒溫精度 ±1℃
10 爐門結(jié)構(gòu) 開啟式
11 工作電源 Ac220v 50Hz/60Hz
12 額定功率 2.5kw
13 外形尺寸 550x380x520mm |
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電熱設(shè)備
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