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【金屬鈮靶濺射金屬鈮靶磁控】濺射金屬鈮靶 【金屬鈮靶濺射金屬鈮靶磁控】濺射金屬鈮靶//【金屬鈮靶濺射金屬鈮靶磁控】濺射金屬鈮靶

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公　司： 寶雞市創(chuàng)匯金屬材料有限公司 
發(fā)布時間：2021年11月29日
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    金屬鈮靶, 濺射金屬鈮靶, 磁控濺射金屬鈮靶, 平面磁控金屬鈮靶, 鍍膜金屬鈮靶,金屬鈮板靶,金屬鈮棒靶,金屬鈮管靶,金屬鈮絲靶,金屬鉭靶,金屬高純鈦靶,金屬鎳靶
靶材的主要性能要求:
純度
純度是靶材的主要性能指標之一，因為靶材的純度對薄膜的性能影響很大。不過在實際應用中，對靶材的純度要求也不盡相同。例如，隨著微電子行業(yè)的迅速發(fā)展，硅片尺寸由6”, 8“發(fā)展到12”, 而布線寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材純度可以滿足0.35umIC的工藝要求，而制備0.18um線條對靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。
雜質含量
靶材固體中的雜質和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對不同雜質含量的要求也不同。例如，半導體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材，對堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。
密度
為了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射薄膜的性能，通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率，還影響著薄膜的電學和光學性能。靶材密度越高，薄膜的性


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