二次離子質譜(SIMS)檢測薄膜的成份等
二次離子質譜分析技術(SIMS)是用來檢測低濃度摻雜劑和雜質的分析技術。 它可以提供范圍在數埃至數十微米內的元素深度分布。SIMS是通過一束初級離子來濺射樣品表面。二次離子在濺射過程中形成并被質譜儀提取分析. 這些二次離子的濃度范圍可以高達被分析物本體水平或低于ppm痕量級以下。
SIMS可幫助客戶解決產品研發、質量控制、 失效分析、故障排除和工藝監測中的問題。
SIMS應用：
 摻雜劑與雜質的深度剖析
薄膜的成份及雜質測定 （金屬、電介質、鍺化硅 、III-V族、II-V族）
超薄薄膜、淺植入的超高深度辨析率剖析
硅材料整體分析，包含B, C, O,以及N
工藝工具（離子植入）的高精度分析
主要優點：
SIMS應用優點：
 優異的摻雜劑和雜質檢測靈敏度。可以檢測到ppm或更低的濃度
 深度剖析具有良好的檢測限制和深度辨析率
 小面積分析（10 μm 或更大）
 檢測包含H在內的元素及同位素
應用局限性：
 破壞性分析
 無化學鍵聯信息
 只能分析元素
 樣品必須是固態以及真空兼容
 要分析的元素必需是已知的​ |
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