鋁方管鉻酸陽極氧化法首要用于光潔度高的精細零件的加工。取得的氧化膜較厚(2～5μm)。膜層質軟、耐性好，能堅持零件原有的精度和光潔度，基本上不會下降原資料的疲勞強度。
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鉻酸氧化液還可以查看資料的晶粒度、纖維方向裂紋等冶金缺陷。因為對鋁方管的溶解速度較低，所以在航空工業中常用于發動機有些強度和精度較高的鋁方管的氧化，如轉子葉片襯套、機輪等，也能夠用于其他精細零件鋁方管的氧化處理。因為鉻酸的水處理需求很嚴厲，因而這一辦法的使用受必定限制。
鋁方管化學或電化學拋光件的檢驗高純度的鋁方管在陽極氧化之前先進行化學或電化學拋光能取得亮光似鏡的效果，但關于通常工業用鋁則無法到達這一目的。這一點常被結構設計師所忽略，誤認為所有不同類型的鋁方管化學或電化學拋光后都能到達亮光似鏡的需求。
事實上是辦不到的。陽極氧化件的檢驗中若發現是一般工業用鋁，并標有化學或電化學拋光需求的，則要做好解說作業，不然不但糟蹋工時、資料，得不到應有效果，工件還能夠因而被拋損而成為廢品。陽極氧化膜由兩層構成，多孔的厚的外層是在具有介電性質的細密的內層上上成長起來的，后者稱為阻擋層（也稱活性層）。
用電子顯微鏡調查研究，膜層的縱橫面簡直全都出現與金屬表面垂直的管狀孔，它們貫穿膜外層直至氧化膜與金屬界面的阻擋層。以各孔隙為主軸周圍是細密的氧化鋁構成一個蜂窩六棱體，稱為晶胞，整個膜層是又無數個這樣的晶胞構成。阻擋層是又無水的氧化鋁所構成，薄而細密，具有高的硬度和阻撓電流經過的效果。
阻擋層厚約 0.03-0.05μm，為總膜后的0.5%-2.0%。氧化膜多孔的外層首要是又非晶型的氧化鋁及小量的水合氧化鋁所構成，此外還富含電解液的陽離子。 當電解液為硫酸時，膜層中硫酸鹽含量在正常狀況下為13%-17%。氧化膜的大有些優良特性都是由多孔外層的厚度及孔隙率所覺決定的，它們都與陽極氧化條 件密切相關。
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