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納米氧化硅（SiO2）分散漿料 TSD

納米氧化硅（SiO2）分散漿料 TSD//納米氧化硅（SiO2）分散漿料 TSD

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公　司：南京天行新材料有限公司

發布時間：2021年01月11日

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蒲婷女士 (銷售經理)

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公司主頁：	http://tansail.qy6.com.cn(加入收藏)

詳細說明

TSD是一種均勻穩定的納米氧化硅分散漿料，外觀為帶藍相白色液體。TSD區別于硅溶膠，是我公司通過先進的納米分散工藝，將納米氧化硅粉體在水或溶劑中充分穩定分散，產品具有優異的分散性和穩定性，能夠儲存6個月穩定無沉淀。
TSD相比較于比納米氧化硅粉體，具有更加細小的粒徑，且不易團聚，粒徑分布狹窄，產品具有更加優異的納米特性，使用時易于添加和混合，極大的提升了納米氧化硅應用的可操作性和應用前景。
產品理化指標
產品型號：TSD
有效成分：納米SiO2
產品外觀：帶藍相白色液體
溶劑：水或者溶劑
固含量（SiO2含量）：10~20 wt%（客戶指定）
分散后粒徑，D50：50~120 nm
pH值：6~8
粘度（25°C）：800cps
儲存穩定性：≥6個月
納米氧化硅分散漿料不含任何有毒有害或揮發性化學品，為綠色環保產品，產品參數均可根據客戶要求定制。
產品應用
TSD具有高納米固含量、低粘度的特性，性能穩定，使用簡單方便，廣泛用于涂料油墨、陶瓷、造紙、膠粘劑、拋光、塑料、紡織上漿等行業，能夠有效的提升產品批次穩定性和產品性能。

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