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公 司: 石久高研金屬材料有限公司 
發布時間:2014年12月01日
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燕麗梅 女士 (業務員)
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電  話: 010-60729105
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公 司:石久高研金屬材料有限公司

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詳細說明

    氧化鉿
化學符號:HfO2
外    觀:白色
分 子 量:210.49
密    度:9.7g/cm³
熔    點:2500℃
折射率(波長/nm):1.9-2.1(300)
   1.84-2.0(2500)
沸    點:5400℃
線膨脹系數:5.8×10-6/℃(250-1300)
10¯4真空下蒸發溫度為:2500℃
蒸發方式:電子束
透明波段/nm:235-2500
介電常數:20.5-23
比    容:0.05μF/cm2
電容溫度系數TCC:(1.25~2.50)×10-4/℃
性    能:適于電子槍蒸發,成膜致密穩定。紫外波段的優良材料。不溶于水,耐化學性質,但在高溫下能與氫氧化物起反應,膜堅硬;
應    用:主要用于紫外膜、防反膜或高反膜和耐火材料、紫外-近紅外多層膜。
          HfO2薄膜是一種絕緣氧化物,即可做薄膜電阻,又可做介子薄膜,一般用濺射法沉積制備。
HfO2分析報告:
Ti Fe Mn Mg Cr Ni
0.0 1 0.012 0.001 0.015 0.005 0.009
Al  Cu      
0.0 1 0.005


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