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程控擴散爐，山東青島廠家發(fā)貨，支持定制

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公　司：青島福潤德微電子設(shè)備有限公司

發(fā)布時間：2024年10月24日

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公司主頁：	http://furundewdz.qy6.com.cn(加入收藏)

詳細說明

擴散爐主要滿足半導體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對所加工硅片進行擴散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機微控方式或者程控方式操作。

擴散爐技術(shù)指標：
可處理硅片尺寸：2—12英寸
外型形式：臥式1—4管結(jié)構(gòu)
工作溫度：200℃—1300℃
恒溫區(qū)長度及精度：200mm—1100mm≤±0.5℃
單點溫度穩(wěn)定性、重復性： ≤±1℃/24h
溫度斜變：可控升溫速率15℃／min
可控降溫速率： 5℃／min
送片裝置：全自動懸臂推拉舟、拉桿式推拉舟
氣路系統(tǒng)：1—5路工藝氣體／管
氣體控制：全自動MFC
控制方式：工控機、觸摸屏

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