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微控擴散爐，可根據需求定制

微控擴散爐，可根據需求定制//微控擴散爐，可根據需求定制

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公　司：青島福潤德微電子設備有限公司

發布時間：2024年09月13日

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岳曉茜女士 (銷售)

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公司主頁：	http://frdwdz.qy6.com.cn(加入收藏)

詳細說明

擴散爐主要滿足半導體電力電子器件、大功率集成電路等行業，對所加工硅片進行擴散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴散爐加熱爐體、氣源系統、控制系統、超凈化操作系統等組成。選用工控機微控方式或者程控方式操作。

擴散爐技術指標：
可處理硅片尺寸：2—12英寸
外型形式：臥式1—4管結構
工作溫度：200℃—1300℃
恒溫區長度及精度：200mm—1100mm≤±0.5℃
單點溫度穩定性、重復性： ≤±1℃/24h
溫度斜變：可控升溫速率15℃／min
可控降溫速率： 5℃／min
送片裝置：全自動懸臂推拉舟、拉桿式推拉舟
氣路系統：1—5路工藝氣體／管
氣體控制：全自動MFC
控制方式：工控機、觸摸屏

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