設備用途:
高溫擴散爐是半導體加工中的典型熱處理設備,用于大規模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件、光導纖維等行業中進行擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝。
產品描述:
◆軟著陸載片裝置
軟著陸送料裝置,避免了SiC槳的遮擋影響,提高了擴散均勻性。同時槳的清洗周期大幅度延長。
◆高精度溫度控制
新型爐體設計,提高了溫度穩定性;配合高精度溫控儀的使用,保 證工藝過程中溫度的快速穩定。
◆高性能進口元器件組合
關鍵件采用進口管件,且為半導體級別;優 質的元器件組合,從而保 證成膜質量
主要技術參數:
◆工藝管數量:1-4管
◆工藝管口徑:Φ90-360mm(3~12英寸)
◆結構型式:臥式熱壁型
◆工作溫度范圍:400~1280℃
◆恒溫區長度及精度±0.5℃/1080mm
◆工藝均勻性:≤±5%(30~60歐姆)
◆氣體流量設定精度:±1%F.S
◆氣路系統氣密性: 1×10-7pa.m3/s
◆超凈工作臺:凈化等級:100級(萬級廠房)
噪音:≤62dB(A)
震動:≤3μm
◆控制方式: 工業微機控制
◆記錄工藝曲線數量及工藝步數不受限制
青島晨立電子有限公司可根據客戶需求定制、改造各種非標擴散爐,擴散爐系統,熱烈歡迎新老客戶致電商討。 |
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