設備用途：
高溫擴散爐是半導體加工中的典型熱處理設備，用于大規模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件、光導纖維等行業中進行擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝。
產品描述：
◆軟著陸載片裝置
軟著陸送料裝置，避免了SiC槳的遮擋影響，提高了擴散均勻性。同時槳的清洗周期大幅度延長。
◆高精度溫度控制
新型爐體設計，提高了溫度穩定性；配合高精度溫控儀的使用，保 證工藝過程中溫度的快速穩定。
◆高性能進口元器件組合
關鍵件采用進口管件，且為半導體級別；優 質的元器件組合，從而保 證成膜質量
主要技術參數:
◆工藝管數量：1-4管
◆工藝管口徑：Φ90-360mm（3～12英寸）
◆結構型式：臥式熱壁型
◆工作溫度范圍：400～1280℃
◆恒溫區長度及精度±0.5℃/1080mm
◆工藝均勻性:≤±5％（30~60歐姆）
◆氣體流量設定精度:±1％F.S
◆氣路系統氣密性： 1×10-7pa.m3/s
◆超凈工作臺：凈化等級：100級（萬級廠房）
噪音：≤62dB（A）
震動：≤3μm
◆控制方式： 工業微機控制
◆記錄工藝曲線數量及工藝步數不受限制
青島晨立電子有限公司可根據客戶需求定制、改造各種非標擴散爐，擴散爐系統，熱烈歡迎新老客戶致電商討。 |
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