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光刻掩膜版高精加工電極掩膜板標(biāo)定掩膜板精密切割

光刻掩膜版高精加工電極掩膜板標(biāo)定掩膜板精密切割//光刻掩膜版高精加工電極掩膜板標(biāo)定掩膜板精密切割

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公　司：北京華諾恒宇光能科技有限公司

發(fā)布時(shí)間：2024年04月19日

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詳細(xì)說明

光刻掩膜版高精加工電極掩膜板標(biāo)定掩膜板精密切割
華諾激光專業(yè)定做掩膜版 mask 金屬掩模板不銹鋼掩膜版，主要適合于高校、科研所、高科技公司的實(shí)驗(yàn)室使用，也適合于工廠批量生產(chǎn)，掩模板可以應(yīng)用于電子束蒸發(fā)，熱蒸發(fā)，磁控濺射等真空鍍膜設(shè)備中，用來制備OTFT、OPV、OLED、鈣鈦礦太陽能電池，光電探測器，場效應(yīng)晶體管等各種器件圖形化薄膜和電極。由于都是定制的產(chǎn)品，具體價(jià)格需要發(fā)圖紙確認(rèn)后，才能正式報(bào)價(jià)。
光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡稱掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。
不銹鋼掩模板是以不銹鋼材料為基板生產(chǎn)的掩模板，此掩模板的特是平整度好、精度高、金屬硬度高可以反復(fù)使用，適用于蒸鍍線路、電極、芯片層等。受高校研發(fā)部門、科研所喜愛。
芯片掩模板用于芯片線路蒸鍍使用，優(yōu)質(zhì)的材料再結(jié)合本公司多年生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)，制造的掩模板平整度高、精度高，利于掩模圖像的轉(zhuǎn)移，適合芯片生產(chǎn)廠家和高校實(shí)驗(yàn)室。
電極掩模板是一款精度在10微米以內(nèi)的金屬掩模板，該掩模板的特點(diǎn)是高精度、高平整度、高硬度、受熱變形量小等，集眾多優(yōu)點(diǎn)于一身，受到廣大院校和研究所好評。

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