用于真空離子蒸鍍的設備
真空蒸發鍍膜法（簡稱真空蒸鍍）是在真空條件下，加熱蒸發容器中待蒸發的材料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸汽流，入社到襯底或基底表面，凝結成固態薄膜的方法。
電阻式熱蒸發鍍膜機 電阻式熱蒸發鍍膜機是鄭州科探儀器設備有限公司生產，臺式設計、軟件自動操控、高性價比，非常適合實驗室科研使用。 通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面
小型蒸鍍儀 鄭州科探KT-Z1650CVD，臺式設計、軟件自動操控、高性價比，非常適合實驗室科研使用。
通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面，稱為熱蒸發鍍膜，熱蒸發鍍膜技術是歷史**久的PVD鍍膜技術之一。熱蒸發鍍膜機一般主要用于蒸發Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。以下為蒸發鍍膜設備的示意圖。
技術規格：
- 基底尺寸：3英寸，4英寸，6英寸；
- 基底旋轉：8轉/分鐘；
- 熱蒸發源：電阻式熱蒸發舟，交流電源；
- 腔體：不銹鋼或石英腔體可供客戶選擇；
- 泵：前級干泵，分子泵；
- Load Lock樣品傳輸腔室：手動或自動傳輸，高真空，支持多種樣品襯底(選配)；
- 工藝控制：PC/PLC機制的自動控制、數據處理、工藝記憶儲存；
- 原位監控：石英晶振監測(QCM)，光學監測，殘余氣體分析，其他原位監測技術或控制；
- 襯底固定：單襯底固定，客戶化襯底固定方式；
- 襯底夾具：加熱，冷卻，偏置，旋轉等；
- 保護樣品：配有樣品擋板，可手動或自動開/關擋板，達到及時遮擋樣品效果； |
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