用于真空離子蒸鍍的設(shè)備
真空蒸發(fā)鍍膜法（簡稱真空蒸鍍）是在真空條件下，加熱蒸發(fā)容器中待蒸發(fā)的材料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸汽流，入社到襯底或基底表面，凝結(jié)成固態(tài)薄膜的方法。
電阻式熱蒸發(fā)鍍膜機(jī) 電阻式熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)是鄭州科探儀器設(shè)備有限公司生產(chǎn)，臺(tái)式設(shè)計(jì)、軟件自動(dòng)操控、高性價(jià)比，非常適合實(shí)驗(yàn)室科研使用。 通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面
小型蒸鍍儀 鄭州科探KT-Z1650CVD，臺(tái)式設(shè)計(jì)、軟件自動(dòng)操控、高性價(jià)比，非常適合實(shí)驗(yàn)室科研使用。
通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為熱蒸發(fā)鍍膜，熱蒸發(fā)鍍膜技術(shù)是歷史**久的PVD鍍膜技術(shù)之一。熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)一般主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。以下為蒸發(fā)鍍膜設(shè)備的示意圖。
技術(shù)規(guī)格：
- 基底尺寸：3英寸，4英寸，6英寸；
- 基底旋轉(zhuǎn)：8轉(zhuǎn)/分鐘；
- 熱蒸發(fā)源：電阻式熱蒸發(fā)舟，交流電源；
- 腔體：不銹鋼或石英腔體可供客戶選擇；
- 泵：前級(jí)干泵，分子泵；
- Load Lock樣品傳輸腔室：手動(dòng)或自動(dòng)傳輸，高真空，支持多種樣品襯底(選配)；
- 工藝控制：PC/PLC機(jī)制的自動(dòng)控制、數(shù)據(jù)處理、工藝記憶儲(chǔ)存；
- 原位監(jiān)控：石英晶振監(jiān)測(cè)(QCM)，光學(xué)監(jiān)測(cè)，殘余氣體分析，其他原位監(jiān)測(cè)技術(shù)或控制；
- 襯底固定：單襯底固定，客戶化襯底固定方式；
- 襯底夾具：加熱，冷卻，偏置，旋轉(zhuǎn)等；
- 保護(hù)樣品：配有樣品擋板，可手動(dòng)或自動(dòng)開/關(guān)擋板，達(dá)到及時(shí)遮擋樣品效果； |
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