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鄭科探KT-Z1650PVD 小型離子濺射儀磁控濺射鍍膜儀器 鄭科探KT-Z1650PVD 小型離子濺射儀磁控濺射鍍膜儀器//鄭科探KT-Z1650PVD 小型離子濺射儀磁控濺射鍍膜儀器

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公　司： 鄭州科創實驗儀器設備有限公司 
發布時間：2023年02月15日
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公　司：鄭州科創實驗儀器設備有限公司

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詳細說明

    該產品為臺式磁控濺射鍍膜機，能夠在非導電或導電不良的樣品上涂布金（Au），鈀（Pd），鉑（Pt）和金/鈀（Au / Pd）的薄膜。 在較短時間內即可形成具有細粒度的均勻薄膜，使樣品適用于掃描電子顯微鏡（SEM）分析。儀器結構緊湊，全自動控制，設計符合人體工程學，所得結果一致，可重復性高。





離子濺射儀在掃描電鏡中應用十分廣泛,通過向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導電樣品的荷電現象,并提高觀測效率,另外可以使用噴碳附件對樣品進行蒸碳,實現不導電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。



磁控濺射優點

(1)沉積速率快,沉積效率高,適合工業生產大規模應用;

(2)基片溫度低,適合塑料等不耐高溫的基材鍍膜;

(3)制備的薄膜純度高、致密性好、薄膜均勻性好、膜基結合力強;

(4)可制備金屬、合金、氧化物等薄膜;







樣品臺更換簡單：標準旋轉樣品臺或選用行星式旋轉樣品臺。標準樣品臺高度可調、可傾斜、可旋轉；行星式旋轉樣品臺為多孔樣品帶來好的噴金效果。


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