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鄭科探KT-Z1650PVD 科研小型磁探濺射儀 小型真空濺射儀 鄭科探KT-Z1650PVD 科研小型磁探濺射儀 小型真空濺射儀//鄭科探KT-Z1650PVD 科研小型磁探濺射儀 小型真空濺射儀

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公 司: 鄭州科創實驗儀器設備有限公司 
發布時間:2023年02月15日
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公 司:鄭州科創實驗儀器設備有限公司

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    KT-1650PVD是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉,樣品高度調節,及電動擋板功能。通過定時調節預濺射功率及薄膜沉積功率,可對大部分金屬進行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。





磁控離子濺射儀為掃描電鏡用戶在制樣過程中提供了更廣泛的選擇,以便適用支持掃描電子顯微鏡所需的涂層要求。磁控濺射的原理是,在電場內在疊加一個磁場,這樣電子在疊加場內做螺旋運動,行程很長,每個電子電離的氣體分子比直流多很多很多,所以可以在低電壓下,有較好的真空度。濺射產生同樣的鍍膜效果。但是因為磁控真空度相對高,所以鍍膜的顆粒小,膜層附著力好,靶材的利用率也高。

在直流濺射過程中,樣品的溫升主要來自于負離子在電場作用下對樣品的轟擊,在磁控濺射中,負離子都被磁場束縛了,所以基本沒有對樣品的轟擊,所以溫升基本沒有,很適合溫度敏感性的樣品制備。


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