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PECVD設備

PECVD設備//PECVD設備

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公　司：青島泰斯邁儀器設備有限公司

發布時間：2021年09月22日

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張女士女士 (商務)

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電　　話： 0532-82021500 傳　　真：手　　機： 17685756785 地　　址：中國山東青島市山東省青島市市北區興隆路167號郵　　編：
公司主頁：	http://tesmysemi.qy6.com.cn(加入收藏)

詳細說明

產品簡介：
Load-lock式Plasma CVD設備CC-200/400是小型的使用便利的可對應從研究開發到量產的設備。

產品特性：
• 27.12MHz高密度等離子制程

• SiH4系：SiO2、SiNx、SiON、a-Si、TEOS系：可對應SiO2膜

• 以CF4+O2 Plasma實現腔體清潔功能

• 可對應有機EL（OLED）的低溫成膜用heater

• 使用Tray可搬送多種基板尺寸

• 通過使用真空Box實現C系列的間接連續制程（Sputter: CS-200, Evaporation: CV-200）

產品應用：
• 功率器件

• LED、LD、高速device等化合物相關

• 有機EL（OLED）開發

• 太陽電池開發

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聯系人：張女士電話：0532-82021500