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氮化鉭靶材TaN磁控濺射靶材

氮化鉭靶材TaN磁控濺射靶材//氮化鉭靶材TaN磁控濺射靶材

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公　司：北京京邁研材料科技有限公司

發(fā)布時(shí)間：2022年02月15日

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詳細(xì)說(shuō)明

氮化鉭靶材TaN磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料
產(chǎn)品介紹
氮化鉭（TaN）為黑色六方結(jié)晶或黃綠色結(jié)，不溶于水、酸。用來(lái)制造精確片狀電阻的材料，氮化鉭電阻則可抵抗水汽的侵蝕；用作超硬質(zhì)材料添加劑，可制備純的五氯化鉭：用于噴涂，增加變壓器、集成線路、二極管的電穩(wěn)定性。
產(chǎn)品參數(shù)
中文名氮化鉭化學(xué)式 TaN
分子量 194.95 熔點(diǎn) 3090°C
密度 13.4g/cm3 純度99.99%
【關(guān)于我們】
服務(wù)項(xiàng)目：靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制。科研單位貨到付款，質(zhì)量保證，售后無(wú)憂！
產(chǎn)品附件：發(fā)貨時(shí)產(chǎn)品附帶裝箱單/質(zhì)檢單/產(chǎn)品為真空包裝
適用儀器：多種型號(hào)磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設(shè)備 
質(zhì)量控制：嚴(yán)格控制生產(chǎn)工藝，采用輝光放電質(zhì)譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測(cè)手段，分析雜質(zhì)元素含量保證材料的高純度與細(xì)小晶粒度；可提供質(zhì)檢報(bào)告。 
加工流程：熔煉→提純→鍛造→機(jī)加工→檢測(cè)→包裝出庫(kù)
陶瓷化合物靶材本身質(zhì)脆且導(dǎo)熱性差，連續(xù)長(zhǎng)時(shí)間濺射易發(fā)生靶裂情況，綁定背靶后，可提高化合物靶材的導(dǎo)熱性能，提高靶材的使用壽命。我們強(qiáng)烈建議您，選購(gòu)陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶！
我公司采用高純銦作為焊料，銦焊厚度約為0.2mm，高純無(wú)氧銅作為背靶。
注：高純銦的熔點(diǎn)約為156℃，靶材工作溫度超過(guò)熔點(diǎn)會(huì)導(dǎo)致銦熔化！綁定背靶不影響靶材的正常使用！
建議：陶瓷脆性靶材、燒結(jié)靶材，高功率下濺射易碎，建議濺射功率不超過(guò)3W/cm2。

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