產(chǎn)品描述
上海伯東日本原裝進口離子蝕刻機 IBE 包含小型離子蝕刻用于研究分析和大型離子蝕刻系統(tǒng)用于生產(chǎn)制造. 離子蝕刻系統(tǒng)對磁性材料, 黃金, 鉑和合金金屬提供**蝕刻技術(shù). 它很容易做各種材料的蝕刻.
上海伯東是日本伯東離子蝕刻機中國總代理
Hakuto 離子蝕刻機 IBE 技術(shù)參數(shù)：
Hakuto 離子蝕刻機 IBE 技術(shù)規(guī)格:
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型號
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7.5IBE
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10IBE
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20IBE-C
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20IBE-J
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適用范圍
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適用于科研院所,實驗室研究
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適合小規(guī)模量產(chǎn)使用和實驗室研究
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適合中等規(guī)模量產(chǎn)使用的離子刻蝕機
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適合大規(guī)模量產(chǎn)使用的離子刻蝕機
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基片尺寸
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Φ4 X 1片或
Φ6 X 1片
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Φ8 X 1片
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Φ3 inch X 8片
Φ4 inch X 6片
Φ8 inch X 1片
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Φ4 inch X 12片
Φ5 inch X 10片
Φ6 inch X 8片
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離子源
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8cm 或 10cm
考夫曼離子源
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10cm 考夫曼離子源
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20cm 考夫曼離子源
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20cm 考夫曼離子源
Hakuto 離子蝕刻機 IBE 應(yīng)用領(lǐng)域：
Hakuto 離子蝕刻系統(tǒng) IBE 主要應(yīng)用：
1.薄膜磁頭 Thin film Magnetic Head
2.自旋電子學(xué) Spi***onics
3.MR Sencer
4.微電子機械系統(tǒng) MEMS Micro-electromechanical Systems
5.射頻設(shè)備 RF Devices
6.光學(xué)組件 Optical Component
7.超導(dǎo)電性 Super Conductivit |
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化工設(shè)備
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