蘇州吳中水駐極超純水設備/電駐極用水設備/熔噴布用水/口罩
駐極超純水設備/電駐極用水設備/熔噴布用水/口罩
熔噴無紡布過濾原理
熔噴無紡布主要材質是聚丙烯，是一種超細靜電纖維布，可以捕捉粉塵。飛沫靠近熔噴布后，會被靜電吸附在無紡布表面，無法透過。這就是這種材料隔絕的原理。
駐極熔噴布技術起初來源于美國，與傳統工藝制造的熔噴布區別在于：傳統熔噴布使用的是電暈駐極，其表現出的穩定性和綜合效益明顯較強；而水駐極熔噴布是通過高壓水泵將制備過的純水輸送到噴嘴，由扇形噴嘴對熔噴布進行噴射，2者摩擦從而產生靜電；水駐極熔噴布表現情況為靜電量飽和。
半導體行業的生產對水質要求非常嚴格，半導體生產用超純水設備采用先進制水技術，保證設備出水水質符合用水需求。
半導體行業用超純水設備工藝
預處理-UF系統-一級反滲透-PH調節-級間水箱-二級滲透-中間水箱-中間水泵-紫外線殺菌器-微孔過濾器-EDI裝置-氮封水箱-增壓水泵-拋光混床-循環增壓泵-用水對象（>=18MΩ.CM)
半導體的生產過程中，涉及到的用水有生產用水和清洗用水。它的用水要求必須是超純水，因為只有超純水才能符合水質的標準，因此半導體生產用超純水設備工藝流程：
原水箱→原水泵→全自動多介質過濾器→全自動活性炭過濾器→還原劑加藥裝置→全自動軟化過濾器→保安過濾器→一級高壓泵→一級反滲透系統→一級RO水箱→PH調節裝置→二級高壓泵→二級反滲透系統→二級RO純水箱→EDI增壓泵→UV殺菌器→脫氣膜→精密過濾器→EDI裝置→UV殺菌器→脫氣膜→精密過濾器→EDI裝置→EDI純水箱→純水泵→拋光混床→0.22u膜過濾器→生產線用水點
半導體生產用超純水設備工作原理
超純水裝置供給原水進入EDI系統，主要部分流入樹脂、膜內部，而另一部分沿膜板外側流動，以洗去透出膜處的離子，樹脂截留水中的容存離子，被截留的離子在電極作用下，陰離子向正級方向運動，陽離子向負極方向運動，陽離子透過陽離子膜，排出樹脂、膜之外，陰離子透過陰離子膜，排出樹脂、膜之外，濃縮了的離子從廢水流路中排出，無離子水從樹脂/膜內流出。
半導體生產用超純水備工藝
通過使用超濾、反滲透、EDI和離子交換系統來生產滿足需求的超純水。并將生產過程中所產生的廢水經過膜系統的處理進行回收再復用，在很大程度上減少了電子、半導體行業的用水量、降低了生產成本醫藥行業純水設備技術方案，工業純水設備技術維修，反滲透純凈水設備方案設計。
我司對于超純水設備采用成熟、可靠、先進、自動化程度高的處理工藝，我司專業生產超純水設備，有十多年的生產經驗，對電控系統PLC方面在水處理行業技術都是成熟的，公司也有做過很 |
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