電子超純水設備
OW電子超純水設備主要應用于電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗，電子管生產，電子管陰極涂敷碳酸鹽配液，顯像管和陰極射線管生產配料用純水黑白顯像管熒光屏生產，玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水，液晶顯示器的生產，屏面需用純水清洗和用純水配液晶體管生產中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制集成電路生產中高純水清洗硅片等。
電子超純水設備詳解:電子工業超純水設備通常由多介質過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等構成預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床（EDI電除鹽系統）系統等構成主要設備系統。
半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。
電子超純水設備工藝流程:采用反滲透設備與電去離子（EDI）設備進行搭配制備電子工業超純水的的方式，這是一種制取超純水的*新工藝，也是一種環保，經濟，發展潛力巨大的超純水制備工藝，其基本工藝流程為：原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設備→電去離子（EDI）→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點、原水箱、中間水箱、 RO純水水箱、超純水水箱均設有液位控制系統、高低壓水泵均設有高低壓壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人值守，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統一的方法，使該設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。
電子超純水設備出水標準
●中國電子行業超純水國家標準GB/1146.1-1997
●實驗室用水國家標準GB6682-92
●美國半導體工業用純水指標
●美國試驗級用水標準( ASTM/NCCLS)
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