磷酸鋰納米顆粒高速研磨機/鋰鹽管線式納米膠體磨/正磷酸高剪切納米膠體磨
磷酸鋰納米顆粒的方法，該方法將含鋰元素的水溶液和含磷元素的水溶液在IKN高剪切反應釜內快速混合進行反應，在20℃-90℃下進行反應，從反應器出口得到含磷酸鋰沉淀的漿料，漿料經固液分離、洗滌、干燥及經過IKN高剪切膠體磨研磨，最終得到呈納米顆粒狀態且單分散性較好的磷酸鋰顆粒。
工業上大多使用磷酸鹽和鋰鹽溶液為原料在攪拌釜等常規反應器內直接混合，反應得到磷酸鋰沉淀。由于常規反應器混合和傳質效率低，因此局部過飽和度較低，不利于快速成核，并且由于反應時間一般為I~5小時，反應時間較長，顆粒生長較為嚴重，造成磷酸鋰顆粒粒徑較大且不均勻，平均粒徑均在微米級。
使用IKN高剪切納米膠體磨具有反應條件溫和，設備可靠性好，所需反應器體積小，過程連續簡便，易于操作等特點。制備的磷酸鋰顆粒粒徑在50-200nm范圍內，尺寸可控，分布均勻，產品產率可達到90%左右。
磷酸鋰納米顆粒高速研磨機/鋰鹽管線式納米膠體磨/正磷酸高剪切納米膠體磨
磷酸鋰納米顆粒高速研磨機定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。齒列的深度：從開始的2.7mm 到末端的0.7mm，范圍比較大，范圍越大，處理的物料顆粒大小越廣。溝槽的結構式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。
磷酸鋰納米顆粒高速研磨機是由IKN研發工程師于2013年研發的一款用于物料精細研磨，分散，乳化，均質的高精度設備，高剪切研磨分散機結合了IKN高剪切膠體磨與IKN高剪切分散均質乳化機的高速研磨，分散，乳化，均質等功能，設備轉速可達14000rpm，是目前XX設備轉速的4-5倍
CM2000系列是專門為膠體溶液生產所設計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產。CM2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。
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