太原超純水設備|光學材料生產用超純水設備【邊虹玉17714225379】
光學材料生產用超純水設備水質要求：
新興的光電材料生產、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。
光學材料生產用超純水設備技術要求：
光電光學玻璃行業的超純水設備主要是為玻璃清洗時給超聲波提供超純水，在設備設計上，采用成熟、可靠、先進、自動化程度高的兩級（RO）反滲透＋EDI＋精混床除鹽水處理工藝，確保處理后的超純水水質出水電阻率達到18.2 MΩ.cm。關鍵設備及材料均采用國際主流先進可靠產品，采用PLC＋觸摸屏控制，全套系統自動化程度高，系統穩定性高。大大節省人力成本和維護成本，水利用率高，運行可靠，經濟合理。使設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。
光學材料生產用超純水設備標準：
我公司LED、LCD顯像管、液晶顯示器用超純水出水水質完全符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準）、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。 |
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