蘇州鏡片清洗用超純水設備|光學鏡片清潔超純水設備
一、光學鏡片清洗用超純水設備系統簡介
    光學鏡片的清洗主要是指鏡片拋光后殘余拋光液、黏結劑、保護性材料的清洗；鏡片磨邊后磨邊油、玻璃粉的清洗；光學鏡片鍍膜前手指印、口水圈以及各種附著物的清洗。光學鏡片在制作過程中表面會粘付一些溶劑、藥水等需要進行清洗，為了保證鏡面的潔凈度防止烘干后產生水痕，需要電導率0.1μs/cm2的超純水進行漂洗。
    光學鏡片用超純水設備系統的清洗工藝包括四個流程：洗滌、漂洗、脫水、干燥。
    因為洗滌過程分溶劑清洗和水基清洗，所以有不同的工藝：有先進行溶劑清洗、溶劑蒸汽干燥再進行水基清洗；也有先進行溶劑清洗，再用乳化劑溶解溶劑，再進行水基清洗的。利用流水將洗滌后鏡片表面的洗劑和污物溶解、排除的過程稱為漂洗。
 
影響漂洗效果的因素有以下幾個：
洗劑的漂清性能，漂洗水的純度、溫度以及流動性等。一般在常溫下，電導率為0.1μs/cm2的超純水可以保證漂洗的要求。
經過漂洗后的光學鏡片表面的潔凈度應和漂洗水潔凈
光學鏡片清洗用超純水設備系統常用的處理工藝為反滲透＋混合離子交換法，或更為先進的反滲透+EDI（電去離子法）使產品水水質能達到0.1μs/cm２,相比之下，后者成本相對高些。
    反滲透+混床高純水系統的產水電阻率達到1-15兆姆25℃,采用雙極混床可達電阻率達到15-18兆歐姆25℃，應用領域十分廣泛。
    反滲透+混床高純水系統是利用反滲透系統除去水中95-97%以上的離子雜質,再用后級混床精處理,除去水中剩余離子,產水水質電阻率一般達到1-15兆歐姆25℃反滲透與混床的完美結合,有著設備投資省,運行成本低,管理維護方便等特點.反滲透技術是利用壓力差為動力的膜分離過濾技術,源于美國二十世紀六十年代宇航科技的研究,后逐漸轉化為民用,目前已廣泛運用于科研醫藥食品飲料海水淡化等領域。
    （RO）反滲透膜孔徑小至納米級，在一定的壓力下,H2O分子可以通過RO膜,而源水中的無機鹽重金屬離子有機物膠體細菌病毒等雜質無法通過RO膜,從而使可以透過的純水和無法透過的濃縮水嚴格區分開來.
     混床是混合離子交換柱的簡稱,是針對離子交換技術所設計的設備.所謂混床,就是把一定比例的陽陰離子交換樹脂混合裝填于同一交換裝置中,對流體中的離子進行交換脫除.由于陽樹脂的比重比陰樹脂 |
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