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真空式等離子處理系統CRF-VPO-MC-6L

真空式等離子處理系統CRF-VPO-MC-6L//真空式等離子處理系統CRF-VPO-MC-6L

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公　司：深圳市誠峰智造有限公司

發布時間：2018年08月14日

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陳生先生 (SEO)

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電　　話： 400-878-9138 傳　　真： 0755-27267268 手　　機： 13632675935 地　　址：中國廣東深圳市寶安區黃埔孖寶工業區郵　　編： 518104
公司主頁：	http://crfplasma.qy6.com.cn(加入收藏)

詳細說明

名稱（Name）真空式等離子處理系統
型號（Model）CRF-VPO-MC-6L
控制系統（Control system）PLC+觸摸屏
電源（Power supply）380V/AC,50/60Hz,12.5kw
中頻電源功率（MF Power）2000W/40kHz
容量（Volume）235L（Option）
層數（Electrode of plies）6（Option）
有效處理面積（Area）500（L）*500（W）（Option）
氣體通道（Gas）兩路工作氣體可選： Ar、N2、CF4、O2

超大處理空間，提升處理產能，采用PLC+觸摸屏控制系統，精確的控制設備運行。
可按照客戶要求定制設備腔體容量和層數，滿足客戶的需求。
保養維修成本低，便于客戶成本控制。
高精度，快響應，良好的操控性和兼容性，完善的功能和專業的技術支持。
主要適用于生物醫療行業，印制線路板行業，半導體IC領域，硅膠、塑膠、聚合體領域，汽車電子行業，航空工業等。

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