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高純鋁靶材 Al Target 金屬濺射靶材

高純鋁靶材 Al Target 金屬濺射靶材//高純鋁靶材 Al Target 金屬濺射靶材

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公　司：北京金源新材科技有限公司

發(fā)布時(shí)間：2018年07月30日

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詳細(xì)說(shuō)明

北京金源新材提供的金屬靶材按照生產(chǎn)工藝分為熔煉鑄造法和粉末冶金法兩大類。
常規(guī)金屬靶材如鋁、鋅、鎳、銅等采用熔煉鑄造工藝，以高純金屬錠為原料，通過(guò)熔煉、鍛造、熱處理和精密機(jī)械加工而成。
產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：純度高、晶粒尺寸小而均勻、表面平整度高。
難熔金屬靶材如鉻、鎢、鉭、鈮等采用粉末冶金工藝，以高純超細(xì)金屬粉末為原料，通過(guò)熱等靜壓等工藝加工成坯，軋制熱處理進(jìn)而精密機(jī)加工之后制成靶材。
產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：靶材孔隙率低，相對(duì)密度高，結(jié)構(gòu)均勻

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