嘉邦光氧除塵器采用先進高溫等離子分解技術進行除臭，有效保護大氣環境，是工業除臭的專用設備。根據光催化氧化劑使用的不同，可以分為非均相光催化氧化和均相光催化氧化。
非均相光催化降解是利用光照射某些具有能帶結構的半導體光催化劑如TiO2、ZnO、CdS、WO3、SrTiO3、Fe2O3等，可誘發產生羥基自由基。在水溶液中，水分子在半導體光催化劑的作用下，產生氧化能力極強的羥基自由基，可以氧化分解各種有機物。把這項技術應用于POPs的處理，可以取得良好的效果，但是并不是所有的半導體材料都可以用作這項技術的催化劑，比如CdS是一種高活性的半導體光催化劑，但是它容易發生光陽極腐蝕，在實際處理技術中不太實用。而TiO2可使用的波長*高可達387.5nm，價格便宜，多數條件下不溶解，耐光，無毒性，因此TiO2得到了廣泛的應用。
均相光催化降解是以Fe2+或Fe3+及H2O2為介質，通過光助 - 芬頓反應產生羥基自由基使污染物得到降解。紫外光線可以提高氧化反應的效果，是一種有效的催化劑。紫外/臭氧(UV/03)組合是通過加速臭氧分解速率，提高羥基自由基的生成速度，并促使有機物形成大量活化分子，來提高難降解有機污染物的處理效率。
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