臥式擴散爐--擴散爐
擴散爐--高溫擴散爐，臥式擴散爐，晨立簡單介紹：
擴散爐--高溫擴散爐，臥式擴散爐，晨立
設備用途：用于大規模集成電路、電力電子、光 電器件、光導纖維等行業的氧化、擴散、燒結、合金等工藝。
設備特點：單元組合方式。根據工藝的不同，可以在主機的基礎上配氣源柜、超凈工作臺、懸臂推拉舟等。
主要技術指標：
★ 爐管數：1～4管
★ 配工藝管口徑：Φ90～360 mm (3～12英寸)
★ 恒溫區長度： 760～1000 mm±1.0℃ (300～800℃) 760～1000 mm±0.5℃(800～1280℃)
★ 單點穩定性： ±1.0℃/24h (300～800℃) ±0.5℃/24h (800～1280℃)
★ 氣源路數： ≤7路，可配恒溫源瓶、氫氧合成點火器
★ 氣體控制： 浮子/質量流量計
★ 懸臂舟參數： 速度： 20～1000 mm/min *大行程：2000 mm 定位精度：±1 mm *大載荷：17 Kg
★ 超凈工作臺： 凈化等級：100級（萬級廠房）
噪音： ≤62dB（A）
振動： ≤3μm
晨立*新擴散爐設備新鮮出爐,技術和質量已達國際水平,受到半導體設備制造企業和半導體行業高度關注.可完全替代國外同規格高端產品滿足不同工藝的要求 |
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