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1200度PECVD等離子增強化學氣相沉積系統 真空鍍膜 1200度PECVD等離子增強化學氣相沉積系統 真空鍍膜//1200度PECVD等離子增強化學氣相沉積系統 真空鍍膜

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公 司: 上海微行爐業有限公司 
發布時間:2018年01月18日
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公 司:上海微行爐業有限公司

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詳細說明

    MXGH1200-PECVD型等離子增強化學氣相沉積系統
產品簡介:此款設備配有Plasma實現等離子增強,滑軌式設計在操作時可將實驗需要的恒定高溫直接推到樣品處,使樣品能得到一個快速的升溫速度,同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處,使樣品直接暴露在室溫環境下,得到快速的降溫速率。并可選配氣氛微調裝置,可準確的控制反應腔體內部的氣體壓力,帶刻度的調節閥對于做低壓CVD非常簡單實用,工藝重復性好,對于石墨烯生長工藝非常合適,也同樣適用于要求快速升降溫的CVD實驗。
主要功能和特點:

1、利用輝光放電產生等離子體電子激活氣相;
2、提高了氣相反應的沉積速率、成膜質量;
3、可通過調整射頻電源頻率來控制沉積速率;
4、能廣泛用于:石墨烯、SiOx、SiNx、CNx、TiCxNy等薄膜的生長。


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