AE 的直流電源產(chǎn)品主要通過物理氣相沉積市場(chǎng)上主要使用的物理氣象沉積工藝——合金濺射以及與有反應(yīng)氣體參與的反應(yīng)濺射，AE直流電源包括：
一、直流脈沖產(chǎn)品套件
AE 的脈沖產(chǎn)品系列具有各種功能，能夠滿足您所有的困難和各式各樣的工藝要求。這個(gè)靈活的直流脈沖附件系列提供 10-200kW 的功率以及 2-100kHz 的固定和可變頻率。這個(gè)系列的每一項(xiàng)產(chǎn)品在設(shè)計(jì)上均具有相當(dāng)?shù)奶攸c(diǎn)，能夠針對(duì)反應(yīng)和直流濺射提供經(jīng)證實(shí)的優(yōu)勢(shì)。
二、ASCENT AP（先進(jìn)脈沖）電源
2013年，AE 通過采用雙極性脈沖直流技術(shù)為雙極磁控濺射帶來了新的技術(shù)革新，提供了前所未有的等離子體控制技術(shù)。Ascent AP電源在緊湊的單/雙極磁控濺射方案中引入了額外的控制參數(shù)，使得功率輸出更加優(yōu)化。Ascent AP具有專利的脈沖技術(shù)，可以主動(dòng)抑制電弧，其廣泛的工作范圍使得該電源可以應(yīng)用于許多材料，拓展了制程的靈活性以及材料的不斷創(chuàng)新。
三、擁有Arc Management System 技術(shù)的 Ascent 直流電源
強(qiáng)大的 Ascent 直流電源專門用于易產(chǎn)生電弧的工藝制程，它可以提供穩(wěn)定功率，以獲得可重復(fù)的高質(zhì)量薄膜。嚴(yán)格的質(zhì)量控制過程確保可達(dá)到*高可靠性。Effective Arc Management System 功能可以熄滅電弧，防止不必要的薄膜損壞或制程中斷。同時(shí) Set Point Compensation 技術(shù)可以平衡設(shè)定點(diǎn)與濺射率，即使在電弧非常頻繁的情況下也能做到這一點(diǎn)。Ascent 電源配備了多種用戶界面和虛擬前面板軟件，易于設(shè)置和操作。您可以選擇主/從裝置，或利用 Arc-Sync 技術(shù)以多個(gè)相鄰的陰極調(diào)節(jié)電源。不管您的配置如何，均可使用 Ascent 電源獲得穩(wěn)定、可重復(fù)的電源。
四、Pinnacle 系列
業(yè)界公認(rèn)的 Pinnacle 直流電源平臺(tái)具有*佳的工藝一致性和控制功能，從而大大減少了工藝變化，提高了產(chǎn)量。這個(gè)緊湊、功能強(qiáng)大的套件提供了業(yè)界*低的存儲(chǔ)能量、*快的弧反應(yīng)以及*廣的全功率運(yùn)行阻抗范圍。
五、Pinnacle Plus+
Advanced Energy (AE) 的 Pinnacle Plus+ 電源為單體直流脈沖電源，為您的反應(yīng)工藝提供脈沖直流電解決方案所有優(yōu)點(diǎn)，包括使用簡單、節(jié)約成本以及具有*佳的靈活性。結(jié)合標(biāo)準(zhǔn)直流電技術(shù)和經(jīng)過工藝證明的脈沖直流電技術(shù)，Pinnacle Plus+ 電源與復(fù)雜而昂貴的交流電解決方案相比，沉積率更高，重復(fù)性能更好，薄膜質(zhì)量更為優(yōu)異。 |
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