簡要描述:一．等離子簡介： PLASMA等離子清洗（又稱電漿），起源于20****初期，隨著高科技的發展，現大量應用在電路板鉆孔后孔內清潔工序，傳統的濕法高錳酸鉀除膠渣工藝因有液體張力等原因，在現有電路板小孔，密孔，肓孔（BlindVia）等產品加工后常有殘留膠渣（smear）。
等離子介紹：
PLASMA等離子清洗（又稱電漿），起源于20****初期，隨著高科技的發展，現大量應用在電路板鉆孔后孔內清潔工序，傳統的濕法高錳酸鉀除膠渣工藝因有液體張力等原因，在現有電路板小孔，密孔，肓孔（Blind Via）等產品加工后常有殘留膠渣（smear）。所以以等離子清潔的干式制程受到矚目。
二．電漿（以下統稱電漿）產生方式：
能產生電漿的方式很多，以下是幾種高密度電漿的產生方式： １．感應耦合式電漿產生法（ICP）
感應耦合式電漿工作原理，線圈上加一高頻電源，當線圈電流發生變化時，由安培定律H = J + 0(E/t)知，可產生變動磁場，同時由法拉第定律E = - 0(H/t)知此變動之磁場會感應一反方向電場，并加速電子與線圈電流相反的二次電流。下圖為電漿實際工作中的照片。
２．中空陰極電漿產生法（HCP）
３．電子回旋共振電漿產生法（ECR）
二．電漿（以下統稱電漿）產生方式：
能產生電漿的方式很多，以下是幾種高密度電漿的產生方式： １．感應耦合式電漿產生法（ICP）
感應耦合式電漿工作原理，如下圖，線圈上加一高頻電源，當線圈電流發生變化時，由安培定律H = J + 0(E/t)知，可產生變動磁場，同時由法拉第定律E = - 0(H/t)知此變動之磁場會感應一反方向電場，并加速電子與線圈電流相反的二次電流。下圖為電漿實際工作中的照片。
２．中空陰極電漿產生法（HCP）
３．電子回旋共振電漿產生法（ECR）
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