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公　司：諾巴迪材料科技有限公司

發(fā)布時(shí)間：2016年04月26日

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詳細(xì)說(shuō)明

該產(chǎn)品具有固態(tài)等離子源、分開(kāi)式反應(yīng)氣體進(jìn)氣系統(tǒng)，動(dòng)態(tài)襯底溫控，全面控制真空系統(tǒng)，采用集中現(xiàn)場(chǎng)控制總線(xiàn)技術(shù)的nobody控制軟件，以及友好用戶(hù)操作界面來(lái)操作。適用于室溫至1200℃條件下進(jìn)行的SiO2、SiNx,、 SiONx a-Si薄膜的沉積，同時(shí)可實(shí)現(xiàn)TEOS源沉積，SiC膜層沉積以及液態(tài)或氣態(tài)源沉積其它材料，尤其適合于有機(jī)材料上高效保護(hù)層膜和特定溫度下無(wú)損傷鈍化膜的沉積。
應(yīng)用領(lǐng)域
等離子誘導(dǎo)表面改性；
等離子清洗；;
等離子聚合;
表面沉積SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、納米硅、SiC、類(lèi)金剛石等多種薄膜;
碳納米管（CNT）的選擇性生長(zhǎng)
主要特點(diǎn)
清洗鍍膜一氣呵成，杜絕二次污染；
上開(kāi)啟結(jié)構(gòu)，式樣觀察方便；
觸屏人機(jī)對(duì)話(huà)整體性操作，安全可靠；;
產(chǎn)品采用全自動(dòng)控制方式，觸摸屏，數(shù)字化顯示。
真空系統(tǒng)、工作壓強(qiáng)、電源系統(tǒng)及自動(dòng)匹配、工藝氣體流量、加熱系統(tǒng)、運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)、工藝過(guò)程、系統(tǒng)監(jiān)控及數(shù)據(jù)采集等

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