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大理石拋光材料

大理石拋光材料//大理石拋光材料

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公　司：深圳晶材化工有限公司

發(fā)布時(shí)間：2016年07月12日

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常昊先生 (經(jīng)理)

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電　　話： 0755-89313259 傳　　真：手　　機(jī)： 13827436268 地　　址：中國(guó)廣東深圳市深圳市龍崗區(qū)平湖宏泰街36號(hào)新南工業(yè)區(qū)1棟郵　　編：
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詳細(xì)說(shuō)明

JC-00系列產(chǎn)品是深圳晶材化工有限公司生產(chǎn)的納米拋光液，采用納米技術(shù)和超分散設(shè)備合成的CMP漿料。產(chǎn)品分別適用于鋁合金鏡面拋光，不銹鋼鏡面拋光，大理石和石材精拋工藝。

主要特點(diǎn)
JC-00系列產(chǎn)品具有表面張力低、易清洗、拋光速率高、拋光鏡面粗糙度低等特點(diǎn)，非常適用于不銹鋼的拋光工藝。直接效果達(dá)到不銹鋼鏡面的光線散射減弱，成像更清晰；水紋現(xiàn)象減弱或消除；本品具拋光及鈍化功能，適用于對(duì)不銹鋼表面要求高度鏡面效果的產(chǎn)品。在拋光中根據(jù)需要可以優(yōu)化不同配比，均能達(dá)到*佳使用效果。
JC-00系列產(chǎn)品綜合了化學(xué)和機(jī)械拋光的優(yōu)勢(shì)：?jiǎn)渭兊幕瘜W(xué)拋光，拋光速率較快，表面光潔度高，損傷低，完美性好，但表面平整度和平行度差，拋光后表面一致性差；單純的機(jī)械拋光表面一致性好，表面平整度高，但表面光潔度差，損傷層深。化學(xué)機(jī)械拋光可以獲得較為完美的表面，又可以得到較高的拋光速率，得到的平整度比其他方法高兩個(gè)數(shù)量級(jí)，是目前能夠?qū)崿F(xiàn)全局平面化的*一有效方法。

主要用途
JC-005H主要應(yīng)用于不銹鋼的拋光工藝中。
JC-003H主要用于鋁合金鏡面拋光工藝；
JC-001H主要用于大理石精拋工藝；

基本參數(shù):
pH值 8.5～9.5
比重 1.280-1.295
粘度（稀釋后）< 10.0(mPa.s)
磨料粒徑 100～120(nm)
磨料濃度 40±2%

使用方法
根據(jù)工藝將拋光原漿料按一定比例與去離子水混合后使用；根據(jù)拋光設(shè)備和拋光切削度合理使用拋光液濃度。

運(yùn)輸及保存
1、運(yùn)輸與存放過(guò)程中要避免光直射。
2、運(yùn)輸與存放溫度為5℃～50℃。
3、保質(zhì)期一年，建議半年內(nèi)使用。

包裝規(guī)格 25Kg/桶
化學(xué)機(jī)械拋光
這兩個(gè)概念主要出現(xiàn)在半導(dǎo)體加工過(guò)程中，*初的半導(dǎo)體基片（襯底片）拋光沿用機(jī)械拋光、例如氧化鎂、氧化鋯拋光等，但是得到的晶片表面損傷是及其嚴(yán)重的。直到60年代末，一種新的拋光技術(shù)——化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)（CMP Chemical Mechanical Polishing ）取代了舊的方法。CMP技術(shù)綜合了化學(xué)和機(jī)械拋光的優(yōu)勢(shì)：?jiǎn)渭兊幕瘜W(xué)拋光，拋光速率較快，表面光潔度高，損傷低，完美性好，但表面平整度和平行度差，拋光后表面一致性差；單純的機(jī)械拋光表面一致性好，表面平整度高，但表面光潔度差，損傷層深。化學(xué)機(jī)械拋光可以獲得較為完美的表面，又可以得到較高的拋光速率，得到的平整度比其他方法高兩個(gè)數(shù)量級(jí)，是目前能夠?qū)崿F(xiàn)全局平面化的*一有效方法。
制作步驟
依據(jù)機(jī)械加工原理、半導(dǎo)體材料工程學(xué)、物力化學(xué)多相反應(yīng)多相催化理論、表面工程學(xué)、半導(dǎo)體化學(xué)基礎(chǔ)理論等，對(duì)硅單晶片化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）機(jī)理、動(dòng)力學(xué)控制過(guò)程和影響因素研究標(biāo)明，化學(xué)機(jī)械拋光是一個(gè)復(fù)雜的多相反應(yīng)，它存在著兩個(gè)動(dòng)力學(xué)過(guò)程：
（1）拋光首先使吸附在拋光布上的拋光液中的氧化劑、催化劑等與襯底片表面的硅原子在表面進(jìn)行氧化還原的動(dòng)力學(xué)過(guò)程。這是化學(xué)反應(yīng)的主體。
（2）拋光表面反應(yīng)物脫離硅單晶表面，即解吸過(guò)程使未反應(yīng)的硅單晶重新裸露出來(lái)的動(dòng)力學(xué)過(guò)程。它是控制拋光速率的另一個(gè)重要過(guò)程。
硅片的化學(xué)機(jī)械拋光過(guò)程是以化學(xué)反應(yīng)為主的機(jī)械拋光過(guò)程，要獲得質(zhì)量好的拋光片，必須使拋光過(guò)程中的化學(xué)腐蝕作用與機(jī)械磨削作用達(dá)到一種平衡。如果化學(xué)腐蝕作用大于機(jī)械拋光作用，則拋光片表面產(chǎn)生腐蝕坑、桔皮狀波紋。如果機(jī)械磨削作用大于化學(xué)腐蝕作用，則表面產(chǎn)生高損傷層。

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