EDI是一種將離子交換技術、離子交換膜技術和離子電遷移技術相結合的純水制造技術。它巧妙的將電滲析和離子交換技術相結合，利用兩端電極高壓使水中帶電離子移動，并配合離子交換樹脂及選擇性樹脂膜以加速離子移動去除，從而達到水純化的目的。在EDI除鹽過程中，離子在電場作用下通過離子交換膜被清除。同時，水分子在電場作用下產(chǎn)生氫離子和氫氧根離子，這些離子對離子交換樹脂進行連續(xù)再生，以使離子交換樹脂保持*佳狀態(tài)。TOC也將更低更穩(wěn)定。通常的產(chǎn)水電阻率約15~18MΩ.cm。
高純度水對許多工商業(yè)工程非常重要，比如：半導體制造業(yè)和制藥業(yè)。以前這些工業(yè)用的純凈水是用離子交換獲得的。然而，膜系統(tǒng)和膜處理過程作為預處理過程或離子交換系統(tǒng)的替代品越來越流行。如電除鹽過程（EDI）之類的膜系統(tǒng)可以很干凈地去除礦物質并可以連續(xù)工作。而且，膜處理過程在機械上比離子交換系統(tǒng)簡單得多，并不需要酸、堿再生及廢水中和。EDI處理過程是膜處理過程中增長*快的業(yè)務之一。EDI帶有特殊水槽，水槽里的液流通道中填充了混床離子交換樹脂。EDI主要用于把總固體溶解量（TDS）為1-20mg/L的水源制成8-17兆歐純凈水。
進水指標要求：
單級或雙級反滲透水
1. 進水壓力： 1.4－7bar
2. 氧化劑（以cl2計）： <0.02ppm
3. 鐵（Fe）： <0.01ppm
4. 錳（Mn）： <0.01ppm
5. 硫化物（s2-） <0.01ppm
6. pH 4-11
7. 總硬度（以CaCO3計） <1.0ppm
8. 溶解有機物（TOC,以C計） <0.5ppm
9. 硅（以sio2） <1.0ppm
系統(tǒng)特點
�。�1） 產(chǎn)水水質高而穩(wěn)定。
�。�2）連續(xù)不間斷制水，不因再生而停機。
（3）無需化學藥劑再生。
（4）設想周到的堆疊式設計，占地面積小。
�。�5）操作簡單、安全。
�。�6）運行費用及維修成本低。
�。�7）無酸堿儲備及運輸費用。
（8）全自動運行，無需專人看護
應用領域：
（1）電子工業(yè)：半導體工業(yè)超純水、集成電路清洗用水制備；
�。�2）電力工業(yè)：高壓鍋爐補給水制備；
�。�3）制藥行業(yè)：醫(yī)用純化水的制備；
�。�4）化學工業(yè)：溶液的脫鹽提純；
（5）實驗室：分析用超純水的制備。 |
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