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供應福潤德pecvd設備

供應福潤德pecvd設備_青島福潤德微電子設備有限公司_供應福潤德pecvd設備

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公　司：青島福潤德微電子設備有限公司

發布時間：2023年01月07日

有效期：2023年07月09日

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顏先生 (業務員)

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電　　話： 0532-68017157 傳　　真： 0532-68017157 手　　機： 13658669338 地　　址：中國山東青島市青島市城陽區北萬工業園郵　　編： 266000
公司主頁：	http://qdfmwdz.qy6.com.cn(加入收藏)

詳細說明

用等離子體增強的化學氣相沉積法(PECVD)是在等離子的幫助下進行處理的薄膜沉積工藝。在眾多的等離子產生辦法中，泰斯達PECVD反應系統使用了高密度的等離子源，如高頻（RF-PECVD）、微波（MW-PECVD）和電子回旋共振（ECR-PECVD）。其濃密的等離子適用于薄膜太陽能電池、表面改性、光和工業鍍覆、氮化硅鈍化、金剛石薄膜和其他。泰斯達所提供的PECVD系統可為客戶個體制造和研發需求量身定制。
RF-PECVD
非晶和微晶硅薄膜可以通過RF-PECVD進行高經濟效益的沉積。這些薄膜組成了非晶硅太陽能電池的吸光層或串聯硅電池（非晶硅+微晶硅）。我們提供了為客戶設計的RF-PECVD系統，可以在任何類型的太陽能電池上使用。非晶硅太陽能電池的泰斯達標準的RF-PECVD系統被配置為四個處理室群。其設計可處理高達12"/300 mm見方的基板。處理室可以自動或手動裝載。這個系統是與FCS-10/30處理控制器和DCS30數據收集系統同時出現的。

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