一、真空箱式爐應用領域
該真空箱式爐以電阻絲為加熱元件,采用雙層殼體結構和40段程序控溫系統,移相觸發、可控硅控制,爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料,真空箱式爐廣泛應用于金屬材料在低真空、還原性、保護性氣氛下的熱處理;也可以用于特殊材料的熱處理。
二、真空箱式爐主要特點 爐門口安裝有水冷系統,氣體經過流量計后由后膛進入,并有多處洗爐膛進氣口,出氣口處有燃燒嘴,可以通氫氣、氬氣、氮氣、氧氣、一氧化碳等氣體,能抽真空,真空度可達15pa,該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節能等優點,是高校、科研院所、工礦企業做氣氛保護燒結、氣氛還原用的理想產品。
三、真空箱式爐規格型號
設備型號 HSZ-2-12 HSZ-6-12 HSZ-8-12 HSZ-10-12 HSZ-15-12
*高溫度 1200℃ 1200℃ 1200℃ 1200℃ 1200℃
控制精度 ±1℃ ±1℃ ±1℃ ±1℃ ±1℃
爐膛尺寸(mm) 200×150×150
(H×W×D) 300×200×200
(H×W×D) 300×250×250
(H×W×D) 400×300×300
(H×W×D) 500×400×400
(H×W×D)
發熱元件 進口電阻絲 進口電阻絲 進口電阻絲 進口電阻絲 進口電阻絲
真空度 66.6pa 66.6pa 66.6pa 66.6pa 66.6pa
冷態壓升率 ≦10~20pa/h ≦10~20pa/h ≦10~20pa/h ≦10~20pa/h ≦10~20pa/h
溫控方式 可控硅模塊自控 |
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